產(chǎn)品參數(shù)：

等離子清洗原理：

等離子清洗原理如下：等離子體與固體表面發(fā)生的反應(yīng)可分為物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)，即分為物理清洗和化學(xué)清洗。物理反應(yīng)機(jī)制是活性粒子轟擊待清洗表面，使污染物脫離固體表面并被真空泵吸走；化學(xué)反應(yīng)機(jī)制是各種活性的粒子和污染物反應(yīng)生成易揮發(fā)性的物質(zhì)，再由真空泵吸走。

就反應(yīng)機(jī)理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；氣相物質(zhì)被吸附在固體表面；被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子解析形成氣相；反應(yīng)殘余物脫離表面。典型的等離子體化學(xué)清洗工藝是氧氣等離子體清洗。主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。通過等離子體產(chǎn)生的氧自由基非常活潑，容易與碳?xì)浠衔锇l(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發(fā)物，從而去除表面的污染物。

等離子體清洗的特點(diǎn)：

等離子體清洗技術(shù)的最大特點(diǎn)是對幾乎所有的基材類型，均可進(jìn)行處理。對金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，如聚脂、聚丙烯、聚酰亞胺、環(huán)氧樹脂、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理。等離子體清洗還具有以下幾個(gè)特點(diǎn)：用戶可以遠(yuǎn)離有害溶劑對人體的傷害；容易采用數(shù)字控制技術(shù)，自動(dòng)化程度高；整個(gè)工藝流程效率極高；具有高精度的控制裝置，時(shí)間控制的精度很高；且正確的等離子體清洗不會(huì)在表面產(chǎn)生損傷層，表面質(zhì)量得到保證；由于是在真空中進(jìn)行，不污染環(huán)境，保證清洗表面不被二次污染。